📘 В книге в краткой и доступной для читателя форме рассмотрены наиболее широко распространенные вакуумные методы получения тонкопленочных слоев с помощью испарения и конденсации веществ в высоком вакууме и распыления ионной бомбардировкой. Описывается аппаратура для контроля скорости осаждения и толщины тонких пленок, и рассматриваются способы получения требуемой конфигурации тонкопленочных элементов интегральных микросхем.Книга предназначена для работников радиотехнической и электронной промышленности, занимающихся проектированием и изготовлением радиоэлектронной аппаратуры с использованием тонкопленочной технологии.Издательство: Энергия