Синхротронное излучение для исследования нанодисперсных материалов

📗 На данный момент точным методом, с помощью которого определяется большинство известных структур, является рентгеноструктурный анализ. Данная работа посещена исследованию наноразмерных пленок вольфрама, поскольку в настоящее время данный вид пленок, формируемых различными методами, находят широкое применение для многих технических приложений: диффузионные барьеры в полупроводниковых технологиях, защитные маски в рентгеновской литографии, рабочие слои в многослойных интерференционных структурах для управления потоками рентгеновского излучения, защитные покрытия внутренних поверхностей токамаков. При этом во всех случаях важной является информация о структуре, пористости и морфологии пленок, которые определяют их функциональные свойства. В работе была отработана методика исследования тонких пленок методом порошковой рентгеновской дифракции на синхротронном источнике с использованием калибровки по эталонному образцу поликристаллического кремния. Проведены эксперименты по исследованию тонких пленок вольфрама и нанокомпозита, содержащего вольфрам.